Horiba汽化器 MV-2000系列实现高效的汽化，即使在低温情况下也可通过螺旋式加热达到汽化效果。此种汽化方式适用于半导体制造工艺，诸如“High-k”——一种易热解的液体源

产品描述

商品详情

混合注入型液体汽化器 MV-2000

用于易热解的液体

概要

Horiba汽化器 MV-2000系列实现高效的汽化，即使在低温情况下也可通过螺旋式加热达到汽化效果。此种汽化方式适用于半导体制造工艺，诸如“High-k”——一种易热解的液体源

特征

以螺旋加热式完成稳定的低温汽化
大流量汽化（增加稳定性数据）
可汽化易热解的液体源

技术参数

型号	MV-2000
液体名称	所有液体，除对不锈钢有腐蚀的(如. HCl, HF)
设定温度	取决于汽化条件(控制阀 : 上限140 ˚C ，汽化器 : 上限200 ˚C)
泄露率	≤ 1 × 10-8 Pa·m3 /s (He)
内部泄露率	≤ 1 × 10-6 Pa·m3 /s (He)
接液材质	SUS316L , PFA
温度传感器	Thermocouple type K (CA)
耐压	1MPa (G)
接口尺寸	液体入口: 1/8”MVCR 载气入口: 1/4 FVCR 气体出口: 1/2 MVCR
操作温	15 - 50 ˚C
可选项	阀门(内漏率: ≤ 1×10-9 Pa · m3 / s(He) )

汽化器产生的气体流量取决于液体的特性，汽化条件等多种参数。
汽化器内有加热器、温度传感器、温度开关。

液体源汽化系统

HORIBA的液体源汽化系统包括三种不同类型的汽化方式：直接注入式、混合注入式、直接加热式。我们的产品严格遵守半导体市场不断更新的要求。我们利用监测/汽化原理制作产品，比如压差监测法或HORIBA更早前开发的应用于液体流量计的冷却法，以及螺旋式的混合注入系统。我们多种不同的汽化系统以及流量控制器可提供您多种不同的选择方式。
HORIBA还拥有高精度、高速数字流量响应的液体流量控制器和液体流量计。

HORIBA对于以下几种液体材料有着丰富的经验

Acetic Acid	Benzene	B(OCH3)3	BTBAS	C6F6
Cyclohexane	Decyl-TMOS	DPM	DPMS	Ethanol
Ge(OCH3)4	GeCl4	H2O	HCD	HDFDA
HMDS	HMDSO	i-Octane	IPA	Me-Cyclohexane
Methanol	n-Octane	OMCTS	OMTS	P(OCH3)3
PO(OCH3)3	SAM24	Si(CH3)4	Si(OCH3)4	SiCH3Cl3
SiCl4	SiH(OCH3)3	SiHCl3	Ta(OC2H5)5	TBTDETa
TDEAHf	TDEAT	TDMAS	TDMAT	TEB
TEMAHf	TEMAZr	TEOS	TEPO	THF
Ti(O-iPr)4	TiCl4	TMCTS	Toluene	1,3-DMA

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MV-2000 混合注入型液体汽化器

Horiba汽化器 MV-2000系列实现高效的汽化，即使在低温情况下也可通过螺旋式加热达到汽化效果。此种汽化方式适用于半导体制造工艺，诸如“High-k”——一种易热解的液体源

商品详情

混合注入型液体汽化器 MV-2000

用于易热解的液体

概要

特征

液体源汽化系统

HORIBA对于以下几种液体材料有着丰富的经验